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中华民国（台湾）专利申请

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中华民国（台湾）专利 ROC
【发明专利】
适 用：涉及方法、配方、较高层次或首次出现之产品或技术。
保护年限：保护20年，自申请日起算。
审查制度：申请及审查制。
          申请时只核发申请案号。
          必须于36个月内由申请人或任何人提出审查请求，否则申请案将消灭。
早期公开：申请案于18个月时将早期公开于政府公报，避免重复研发与申请。
审查时间：12个月以上。
年 费：必须缴专利年费以维持专利有效性。
优 先 权：与部分国家或组织签订有互惠承认条约。
备 注：自2010年1月1日起，专利范围以10项为基本项，第11项起逐项加收权项费。

【实用新型专利】
适 用：涉及中等技术层次之产品（须为有具体形像之实体，若是方法专利则应属于发明专利）。
保护年限：保护10年，自申请日起算。
审查制度：注册制（型式审查）。即不进行实审可及早核发专利证书。发证后申请人或任何人均可请求主管机关作出新型专利技术报告，评估新型专利之可专利程度，做为权利主张与专利回避之参考数据。
专利证书不因技术报告之内容而存灭。
审查时间：3~6个月。
年 费：必须缴专利年费以维持专利有效性。
优 先 权：与部分国家或组织签订有互惠承认条约。

【外观计设专利】
适 用：涉及产品之外观、造型、花纹、色彩。
保护年限：保护12年，自申请日起算。
审查制度：审查制。
          可接受2D、3D、照片所绘制之立体图及各面视图。
审查时间：10~12个月。
年 费：必须缴专利年费以维持专利有效性。
优 先 权：与部分国家或组织签订有互惠承认条约。

 

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